PECVD系统 |
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PECVD 系统是为了使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通 CVD 装置的前端加入 RF 射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，进而利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统（PECVD）。 该型号PECVD在 PECVD 前端加入了气体预热区，针孔较少，不易龟裂。控制部分采用了我公司自主研发的实验电炉全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。 主要特点 Ø气体预热——增加前端气体预热区，沉积速度更快，成膜效果更好； Ø智能 控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制统一集中调节和操控，协调控制； Ø管内压力自动平衡——管内压力实时监测，自动平衡管内压力。 Ø智能气路通断——每路气体均可定时通断，省时省力； Ø射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，系统自动运行； Ø炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离； Ø整机结构融为一体——移动方便，避免分散组装的困扰。 技术参数
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